• 采用最合適制造方法的濺射靶
ULVAC為了滿足半導體工藝所需的各種要求,采用合適的制造方法,進行靶材的開發(fā)和制造。
鎢靶的GDMS分析結果
半導體設備用的濺射靶材
主要300mmWafer用靶材